Bahan Pelapis PVD

• Target Sputtering 4N ZrO2 Dengan Pelat Belakang Cu

  Target penyemprotan zirkonium dioksida kami dengan pelat penyangga dibuat menggunakan-bahan zirkonium dioksida dengan kemurnian tinggi, yang diikat erat ke pelat penyangga logam; desain ini...

  Lebih
• Target Sputtering ZrC Dengan Pelat Belakang Cu

  Target sputtering Zirkonium Karbida (ZrC) kami dengan pelat dasar tembaga memiliki ikatan yang kuat antara-bahan target ZrC dengan kemurnian tinggi dan lapisan belakang tembaga. Desain ini...

  Lebih
• Ta 5at% Target Sputtering ZrC yang Didoping

  Doping Zirkonium Karbida yang tepat dengan rasio 5 persen atom Tantalum secara signifikan meningkatkan ketahanan-suhu tinggi, ketahanan guncangan termal, dan ketahanan korosi pada material target....

  Lebih
• Target Sputtering IGZO 4N

  Target sputtering 4N IGZO kami menghasilkan kinerja sputtering yang lebih stabil dan efisien. Khusus untuk aplikasi tampilan dan semikonduktor kelas atas, mereka memfasilitasi realisasi mobilitas...

  Lebih
• Target HfO2 4N Dengan Pelat Belakang Cu

  Target Sputtering HfO₂ 4N dengan Dukungan Tembaga menggunakan bahan hafnium oksida dengan kemurnian 99,99%. Terintegrasi dengan lapisan tembaga, ia menawarkan konduktivitas termal yang sangat baik...

  Lebih
• 4N HfO2 Diolah Dengan Target Ti 2%.

  Target sputtering HfO₂ yang didoping Ti-2% dibuat menggunakan substrat hafnium oksida dengan kemurnian-tinggi, yang diolah secara tepat dengan titanium 2%. Dicirikan oleh keseragaman komposisi dan...

  Lebih
• Target Penyemprotan HfO2 4N

  Target Sputtering Hafnium Dioksida Kemurnian Tinggi 4N (Kemurnian 99,99%)—cocok untuk aplikasi pada pelapis optik, semikonduktor, dan elektronik presisi. Menampilkan kepadatan tinggi, komposisi...

  Lebih
• Target Sputtering Karbon 4N yang Dapat Disesuaikan

  Target sputtering karbon 4N kami yang{0}}kemurnian tinggi dibuat dari 99,99% bahan karbon murni, memiliki tingkat pengotor yang rendah dan menjadikannya ideal untuk aplikasi dalam semikonduktor,...

  Lebih
• Target Penyemprotan B4C

  Memanfaatkan-bahan baku boron karbida dengan kemurnian tinggi, produk ini memiliki kekerasan luar biasa dan stabilitas termal yang kuat, sehingga ideal untuk aplikasi dalam manufaktur...

  Lebih
• Target Sputtering Boron Khusus

  Kami menyediakan target boron padat-dengan kemurnian tinggi dan sangat cocok untuk proses semikonduktor dan pelapisan. Kami mendukung fabrikasi khusus berdasarkan gambar teknis, mengontrol tingkat...

  Lebih
• Target Tungsten Bulat 3N5 yang disesuaikan

  Kami menawarkan-target tungsten melingkar yang dibuat khusus dengan kemurnian 3N5 (99,95%). Diproduksi menggunakan metalurgi serbuk, bahan ini memiliki struktur mikro yang seragam, kepadatan...

  Lebih
• Target Sputtering Hf Kemurnian Tinggi yang Disesuaikan

  Kami menawarkan target sputtering hafnium-kemurnian tinggi-yang dibuat khusus dengan kemurnian melebihi 99,9%, menampilkan kepadatan seragam dan struktur mikro halus. Dirancang khusus untuk chip...

  Lebih