Target Penyemprotan Keramik

• Target Penyemprotan Oksida Timah (SnO2)

  Target oksida timah (SnO2) merupakan material non-logam anorganik yang penting. Karena sifat fisik dan kimianya yang unik, material ini memegang peranan penting dalam banyak bidang teknologi...

  Lebih
• Target Penguapan Tantalum Oksida (Ta2O5)

  Target Sputtering Tantalum Oxide dapat digunakan dalam semikonduktor, chemical vapor deposition (CVD), physical vapor deposition (PVD) display, dan aplikasi optik. Kami adalah pemasok Target...

  Lebih
• Target Sputtering Titanium Oksida (TiO2)

  Titanium dioksida (TiO2) merupakan pigmen putih yang paling banyak digunakan, misalnya dalam cat. Pigmen ini memiliki tingkat kecerahan tinggi dan indeks bias yang sangat tinggi (2,609 untuk rutil).

  Lebih
• Target Penyemprotan Seng Oksida (ZnO)

  Target Sputtering Zinc Oxide (ZnO) digunakan untuk Deposisi Uap Fisik Sputtering Magnetron. Berbagai diameter, ketebalan, dan kemurnian tersedia untuk memenuhi semua produsen sumber sputtering utama.

  Lebih
• Target Penyemprotan Magnesium Fluorida (MgF2)

  Magnesium fluorida adalah garam kristal berwarna putih dan transparan pada rentang panjang gelombang yang luas, dengan penggunaan komersial dalam optik yang juga digunakan dalam teleskop luar...

  Lebih
• Target Penyemprotan Litium Kobalt Oksida (LiCoO2)

  Litium kobalt oksida merupakan struktur berlapis, yang menyediakan terowongan dua dimensi untuk migrasi ion litium. Target sputtering LiCoO2 merupakan material yang bagus untuk membuat baterai...

  Lebih
• Target Sputtering Molibdenum Oksida (MoO3)

  Target Sputtering Molibdenum Oksida dapat digunakan dalam semikonduktor, deposisi uap kimia (CVD), tampilan deposisi uap fisik (PVD), dan aplikasi optik. Kami adalah pemasok Target Sputtering...

  Lebih
• Target Penyemprotan Magnesium Oksida (MgO)

  Magnesium oksida dalam target sputtering terutama tercermin dalam pembentukan film berkecepatan tinggi, aplikasi dalam industri mikroelektronik dan fotovoltaik, proses persiapan khusus, dan...

  Lebih
• Target Sputtering Molibdenum Disulfida (MoS2)

  MoSi2 adalah struktur tetragonal. MoSi2 merupakan fase antara dengan kandungan silikon tertinggi dalam sistem paduan biner Mo-Si. MoSi2 merupakan senyawa intermetalik Dalton dengan komposisi...

  Lebih
• Target Sputtering Niobium Oksida (Nb2O5)

  Target niobium oksida kami diproduksi menggunakan proses pengepresan panas vakum, pengepresan isostatik panas, pengepresan dingin, dan penyemprotan termal yang canggih. Produk kami meliputi target...

  Lebih
• Target Sputtering Nikel Oksida (NiO)

  Target NiO merupakan material yang digunakan dalam teknologi pertumbuhan lapisan tipis seperti deposisi uap fisik (PVD) dan deposisi uap kimia (CVD). Teknologi ini memainkan peran utama dalam...

  Lebih
• Target Sputtering Karbida Silikon (SiC)

  Bagian ini membahas karakteristik dasar target silikon karbida secara rinci, dari sifat kimia dan fisiknya, metode persiapan, hingga analisis komprehensif indikator evaluasi kualitas, yang...

  Lebih