Bahan Pelapis PVD
-
Sasaran Sputtering Boron (B)Target penyemprotan boron memiliki sifat yang sama dengan boron. Boron merupakan unsur kimia yang berasal dari bahasa Arab 'buraq', yang merupakan nama untuk boraks. "B" merupakan simbol kimia...Lebih
-
Target Penyemprotan Aluminium Seng Oksida (AZO)Target AZO, nama lengkapnya adalah target aluminium oksida seng, adalah material semikonduktor yang didoping secara khusus. Secara spesifik, ini adalah material komposit yang terdiri dari oksida...Lebih
-
Target Sputtering Barium Titanat (BaTiO3)Barium titanat adalah padatan kristal yang digunakan dalam aplikasi optoelektronik dan sebagai keramik dielektrik dalam kapasitor dengan nilai konstanta dielektrik setinggi 7,000. Barium titanat...Lebih
-
Target Penyemprotan Boron Nitrida (BN)Boron nitrida (BN) adalah kristal yang terdiri dari atom nitrogen dan atom boron. Biasanya berwarna hitam, cokelat, atau merah tua. Kristal ini memiliki struktur sfalerit, konduktivitas termal...Lebih
-
Target Penyemprotan Boron Karbida (B4C)Boron Karbida: Ditemukan pada abad ke-19 sebagai produk sampingan penelitian borida logam dan tidak diteliti secara ilmiah hingga tahun 1830-an. Boron Karbida merupakan zat terkeras kelima setelah...Lebih
-
Target Penyemprotan Cerium Oksida (CeO2)Cerium oksida merupakan zat anorganik dengan rumus kimia CeO2, bubuk kuning muda atau kuning kecokelatan. Kepadatan 7,13 g/cm3, titik leleh 2397 derajat, tidak larut dalam air dan alkali, sedikit...Lebih
-
Target Penyemprotan Hafnium Oksida (HfO2)Zirkonia (ZrO2), yang juga dikenal sebagai zirkonium dioksida, merupakan material keramik berkinerja tinggi yang sangat penting. Karena titik lelehnya yang tinggi, kekuatan lentur yang tinggi, dan...Lebih
-
Target Penyemprotan Indium Oksida (In2O3)Indium oksida adalah oksida dengan rumus molekul In2O3. Produk murni berupa bubuk amorf berwarna putih atau kuning muda, yang berubah menjadi cokelat kemerahan saat dipanaskan. Indium oksida...Lebih
-
Target Sputtering Indium Tin Oxide (ITO)Bahan target ITO, Indium Tin Oxide, merupakan bahan konduktif transparan yang penting. Dalam bidang persiapan lapisan tipis, target ITO banyak digunakan sebagai bahan baku dasar dalam perangkat...Lebih
-
Target Sputtering Silikon Oksida (SiO2)Silikon dioksida, sebagai material yang banyak digunakan dalam teknologi modern, telah mendapat perhatian luas karena sifat fisik dan kimianya yang sangat baik. Terutama dalam teknologi sputtering...Lebih
-
Target Penyemprotan Indium Galium Seng Oksida (IGZO)Kami memproses Target Sputtering Indium Gallium Zinc Oxide (IGZO) dengan kualitas tinggi dan harga yang kompetitif. Target sputtering IGZO, yang nama lengkapnya adalah target indium gallium zinc...Lebih
-
Target Sputtering Silikon Nitrida (Si3N4)Target sputtering silikon nitrida adalah jenis target sputtering keramik nitrida. Si3N4 adalah material keramik dengan titik leleh tinggi yang sangat keras dan relatif inert secara kimia. Si3N4...Lebih
Kami adalah pemasok material pelapis pvd profesional di Cina, yang mengkhususkan diri dalam menyediakan layanan yang disesuaikan dengan kualitas tinggi. Kami dengan hangat menyambut Anda untuk membeli material pelapis pvd diskon yang tersedia di sini dan mendapatkan sampel gratis dari pabrik kami. Untuk konsultasi harga, hubungi kami.
