Rumah / Produk / Bahan Pelapis PVD / Target Penyemprotan Paduan

Target Sputtering Aluminium Kromium (AlCr)

Aluminum Chromium (AlCr) Sputtering Target

Aluminum Chromium AlCr Sputtering Target 2

Aluminum Chromium AlCr Sputtering Target 3

Aluminum Chromium AlCr Sputtering Target 4

Target Sputtering Aluminium Kromium (AlCr)

Sasaran paduan aluminium-kromium kami mengadopsi proses pengepresan isostatik panas yang canggih. Produknya meliputi sasaran persegi panjang, sasaran lengkung, dan sasaran tabung yang dibentuk secara integral dengan rasio aspek besar, dll., dengan berbagai rasio komposisi, kemurnian dan kepadatan tinggi, keunggulan butiran kristal kecil dan seragam serta masa pakai yang lama.

Kirim permintaan

Deskripsi Produk

Sasaran paduan aluminium-kromium kami mengadopsi proses pengepresan isostatik panas yang canggih. Produknya meliputi sasaran persegi panjang, sasaran busur, dan sasaran tabung yang dibentuk secara integral dengan rasio aspek besar, dll., dengan berbagai rasio komposisi, kemurnian dan kepadatan tinggi, keunggulan butiran kristal kecil dan seragam serta masa pakai yang lama. Dapat disesuaikan secara bebas sesuai dengan kebutuhan pelanggan, dan kepadatan sebenarnya mendekati 99%.

Berikut ini adalah proses produksi target kromium aluminium

Bahan baku - pencampuran serbuk - pelapisan - pelapisan serbuk paduan - pengepresan selubung - pengepresan isostatik panas - inspeksi metalografi - pemotongan kawat - pemesinan - inspeksi dimensi - pembersihan-pengemasan

Pemeriksaan metalografi target sputtering paduan aluminium-kromium

Melalui penempaan, penggulungan, dan perlakuan panas yang berulang, kita dapat menyesuaikan struktur mikro material target dengan tepat untuk mencapai efek yang Anda inginkan. Jika ukuran butiran material target sputtering seragam, pengguna dapat memperoleh laju sputtering yang baik dan lapisan lantai yang seragam. Gambar di bawah ini adalah gambar inspeksi metalografi mikroskopis dari target sputtering aluminium kromium (AlCr 70/30at%), dengan ukuran partikel rata-rata<100μm.

Barang	Target Sputtering Logam Aluminium Kromium (Target AlCr) AlCr30at% AlCr50at% AlCr40wt% dll
Bahan	Bahan Logam Aluminium
Kemurnian	99.9%-99.95%, 3N,3N5
Ukuran	10x10x10mm,1-10mm, D3x3mm, 1 inci, 2 inci, 3 inci, Atau Sesuai Permintaan
Warna	Warna Metalik
Membentuk	Pelet, Butiran, Planar/Bulat/Pelat/Putar/Batang, Sesuai Permintaan.
Permukaan	Permukaan yang dipoles
Kepadatan Kr	7,19 gram/cm3
Titik Leleh Cr	1890 derajat
Aplikasi	Pelapisan Film PVD, Pelapisan Film Tipis Optik, Penggunaan Industri, Proses, Area Semidoduktor, Eksperimen, dll.