Target Sputtering Aluminium Titanium (AlTi)

Target Sputtering paduan Aluminium Titanium (AlTi) diproduksi dengan teknologi HIP, banyak digunakan untuk pelapisan alat dan pelapisan dekoratif. Dibandingkan dengan teknologi peleburan, target TiAl yang diproduksi dengan teknologi HIP memiliki struktur mikro-dalam yang lebih seragam, ukuran butiran lebih kecil, dan cocok untuk berbagai mesin sputtering magnetron dan mesin pelapisan ion.

Kirim permintaan

Deskripsi Produk

Perkakas yang dilapisi film tipis AlTi memiliki kecepatan umpan yang lebih tinggi, kinerja pemotongan yang lebih baik, masa pakai yang lebih lama, dan tingkat penghilangan logam yang lebih tinggi dapat dicapai tanpa kesulitan.

Target Sputtering Aluminium Titanium dan katode busur juga digunakan untuk pelapisan dekoratif, untuk memperoleh lapisan film berwarna cokelat keemasan dan hitam kecokelatan. Pengguna akhir dapat memperoleh kekerasan yang baik, kecerahan tinggi, warna yang tahan korosi dan oksidasi tanpa perubahan warna dalam waktu yang sangat lama. Target kami telah memenuhi syarat oleh banyak pengguna akhir, termasuk produsen jam tangan, peralatan saniter, kaca spion mobil, dan lain-lain.

Kami memiliki AlTi25/75at%, AlTi30/70at%, AlTi33/67at%, AlTi40/60at%, AlTi50/50at%,

Target dan katode AlTi70/30at% untuk pelapisan dekoratif dan perkakas. Fleksibilitas proses produksi kami memungkinkan mikrostruktur bahan pelapis kami disesuaikan untuk mencapai efek yang Anda inginkan. Jika butiran target sputtering sejajar secara seragam, pengguna dapat memperoleh manfaat dari laju erosi yang konstan dan lapisan yang homogen.

Nama	Sasaran Paduan AlTi
Bahan	Paduan Aluminium Titanium
Kemurnian	>5N >99.9999.8
Ukuran	Disesuaikan
Warna	Perak
Membentuk	Disesuaikan
Permukaan	Permukaan yang dipoles;Ra Kurang dari atau sama dengan 1,6μm
Kepadatan	≈2,72g/cm³ (berdasarkan proporsi Titanium terhadap Aluminium)
Aplikasi	Digunakan untuk Sirkuit Terpadu, Pelapisan Film PVD, Pelapisan Vakum, dll.