Deskripsi Produk
Target paduan nikel-vanadium dengan kemurnian tinggi memiliki kilau metalik putih keperakan, kepadatan: 6,11 g/cm3, titik leleh 1910 derajat, titik didih 3407 derajat. Ini adalah salah satu paduan sputtering film tipis terpenting dalam bidang semikonduktor. Ia memiliki sifat kimia, listrik, dan optik yang dibutuhkan untuk Ni murni dengan keuntungan tambahan karena bersifat non-feromagnetik. Karena sifat non-feromagnetiknya, ia mudah digunakan dalam peralatan sputtering magnetron berkecepatan tinggi.
|
Elemen: |
Paduan NiV |
|
Kemurnian: |
3N 3N5 |
|
Membentuk: |
Target planar; Putar target |
|
Jumlah pesanan minimum: |
1 buah |
|
Kemasan: |
Kemasan vakum tiga lapis atau perlindungan gas argon, sesuai dengan spesifikasi kemasan IATA, DOT |
Spesifikasi
Ukuran: D152.4X6mm, dapat disesuaikan sesuai permintaan.
Bentuk: target datar, target berputar, kustomisasi bentuk khusus
Alur Proses Persiapan Material - Peleburan - Analisis Kimia - Penempaan - Penggulungan - Anil - Pemeriksaan Metalografi - Pemesinan - Pemeriksaan Dimensi - Pembersihan - Pemeriksaan Akhir - Pengemasan
Aplikasi
Terutama digunakan dalam sputtering magnetron reaktif untuk mengendapkan lapisan dielektrik seperti SiO2 dan SiN. Sebagai bahan lapisan tipis fungsional yang penting, bahan ini memiliki kekerasan, sifat optik, dielektrik, dan ketahanan aus yang baik. Ketahanan korosi target silikon memiliki prospek aplikasi yang luas di bidang optik dan mikroelektronika, dan saat ini banyak digunakan sebagai bahan fungsional di seluruh dunia. Saat ini, target nikel vanadium digunakan dalam pengendapan lapisan tipis, dekorasi, semikonduktor, tampilan, perangkat LED dan fotovoltaik, pelapis fungsional dan industri ruang penyimpanan informasi optik lainnya, industri pelapis kaca seperti kaca otomotif dan kaca arsitektur, komunikasi optik, dll.
Tag populer: target sputtering nikel vanadium (niv), pemasok target sputtering nikel vanadium (niv) Tiongkok, pabrik
