Deskripsi Produk
Bahan target ITO, Indium Tin Oxide, merupakan bahan konduktif transparan yang penting. Dalam bidang persiapan lapisan tipis, target ITO banyak digunakan sebagai bahan baku dasar dalam perangkat elektronik dan optoelektronik. Bahan ini dapat memberikan konduktivitas yang baik sekaligus mempertahankan transparansi yang tinggi, menjadikan ITO pilihan yang ideal untuk menyiapkan lapisan konduktif transparan.
Analisis Komposisi dan Komposisi Kimia
Target Sputtering ITO Indium Tin Oxide
Bahan target ITO adalah senyawa yang dibentuk oleh dua unsur, indium (In) dan timah (Sn), dalam lingkungan pengoksidasi. Rumus kimianya adalah In2O3: SnO2, dan biasanya, rasio berat indium terhadap timah adalah sekitar 90:10. Kombinasi kimia khusus ini memastikan transparansi tinggi dan konduktivitas material yang sangat baik. Fungsi utama indium adalah untuk memberikan konduktivitas tinggi, dan penambahan timah digunakan untuk meningkatkan stabilitas kimia dan kekerasan mekanis seluruh material.
Sifat fisika dan kimia
Transparansi optik: ITO menunjukkan tingkat transparansi yang tinggi, terutama pada pita cahaya tampak, yang membuatnya sangat penting dalam aplikasi seperti layar LCD dan layar sentuh.
Konduktivitas: Konduktivitas ITO merupakan karakteristik penting lainnya, yang terutama dikaitkan dengan struktur elektronik indium timah oksida, menjadikannya bahan konduktif yang ideal, terutama dalam aplikasi yang memerlukan elektroda transparan.
Stabilitas termal: Pada suhu tinggi, ITO dapat menjaga stabilitas sifat kimia dan fisiknya, yang sangat penting untuk perangkat elektronik yang beroperasi pada suhu tinggi.
Kekerasan mekanis: Meskipun ITO memiliki tingkat kerapuhan tertentu, kekerasan mekanisnya masih cukup untuk memenuhi persyaratan sebagian besar aplikasi elektronik.
|
Nama |
Target Sputtering ITO Target Keramik Indium Tin Oxide (Target ITO) |
|
Bahan |
Bahan Logam Indium |
|
Kemurnian |
99,9%-99.999%, 3N, 3N5, 4N, 5N dst. |
|
Ukuran |
D50.8x3mm,1-10mm, D3x3mm, 2 inci, 3 inci, Atau Sesuai Permintaan |
|
Warna |
Warna hitam |
|
Membentuk |
disesuaikan |
|
Permukaan |
Permukaan yang dipoles |
|
Kepadatan |
7,31 gram/cm3 |
|
Titik lebur |
156 derajat |
|
Aplikasi |
Pelapisan Film PVD, Pelapisan Film Tipis Optik, Penggunaan Industri, Proses, Area Semidoduktor, Eksperimen, dll. |
Tag populer: target sputtering indium tin oxide (ito), pemasok target sputtering indium tin oxide (ito) Tiongkok, pabrik


