Deskripsi Produk
Pabrik kami memproduksi Target Sputtering Zinc Oxide (AZO) terdoping Aluminium dengan kemurnian tinggi, dengan kepadatan tertinggi dan ukuran butiran rata-rata sekecil mungkin, untuk digunakan dalam semikonduktor, deposisi uap kimia (CVD), dan aplikasi tampilan deposisi uap fisik (PVD) serta optik.
Memproduksi Sasaran Sputtering Zinc Oxide/Aluminium Oxide (AZO) dengan berbagai bentuk seperti cakram, persegi panjang, kolom, anak tangga, dan bentuk khusus. Diameter tipikal untuk sasaran melingkar meliputi 1 inci, 2 inci, 3 inci, 4 inci atau 50mm, 60mm, 80mm, 100mm, dst. Ketebalan tipikal meliputi 0,125 inci dan 0,25 inci atau 3mm, 4mm, 5mm, 6mm, dst.
Target Sputtering kami dapat diikat dengan pelat pendukung tembaga sesuai permintaan. Kemurnian, bentuk, dan ukuran yang berbeda juga dapat dibuat khusus untuk Target Sputtering Zinc Oxide/Aluminium Oxide (AZO).
Dari pemilihan bahan baku hingga pengendalian temperatur, tekanan, dan waktu sintering tekan panas, kami benar-benar mengikuti proses produksi spesifik, sehingga target sputtering keramik yang telah selesai memiliki karakteristik kemurnian tinggi, kepadatan tinggi, warna permukaan seragam tanpa bintik dan retak, pengguna akhir dapat memperoleh laju erosi konstan dan lapisan tipis yang sangat murni dan homogen selama proses PVD.
Target Penyemprotan Seng Oksida/Aluminium Oksida (AZO)
Komposisi Reguler: ZnO/Al2O3=98/2wt%, 99/1wt%, dll.
Kemurnian: 99,99%;
Metode Produksi: sintering tekan panas
Dimensi yang tersedia:
Lingkaran: Diameter=1", 2", 3" dan 4", ukuran lain dapat disesuaikan
Persegi panjang: Panjang=3mm dan 6mm
Spesifikasi
|
jenis bahan |
Seng oksida yang didoping alumina |
|
Simbol |
Al2O3/ZnO 2/98 berat% |
|
Warna/Penampilan |
Padat dalam berbagai bentuk |
|
Titik Leleh (derajat) |
N/A |
Tag populer: target sputtering seng oksida/aluminium oksida (azo-zno/al2o3), pemasok target sputtering seng oksida/aluminium oksida (azo-zno/al2o3) Tiongkok, pabrik
