Target Sputtering Magnesium 4N Mg
Target Sputtering Magnesium 4N Mg

Target Sputtering Magnesium 4N Mg

Target sputtering magnesium 4N adalah-bahan sputtering logam dengan kemurnian tinggi dengan kemurnian lebih dari atau sama dengan 99,99%. Bahan ini memiliki butiran halus dan komposisi seragam, sehingga cocok untuk semikonduktor, pelapisan optik, dan persiapan pelapisan anti-korosi. Produsen profesional menawarkan ukuran yang disesuaikan, pengemasan vakum, dan pengiriman cepat untuk memenuhi kebutuhan penelitian dan industri, memfasilitasi pembentukan film yang efisien di bidang seperti chip, MEMS, dan-sel surya film tipis. Memilih target magnesium dengan kemurnian tinggi akan meningkatkan daya rekat dan keseragaman film, memastikan proses yang stabil, biaya pemeliharaan yang rendah, dan kualitas yang terjamin.
Kirim permintaan
Deskripsi Target Sputtering Magnesium 4N Mg

Dengan titik leleh 649 derajat, massa jenis 1,74 g/cc, dan tekanan uap 10-4 Torr pada 327 derajat, magnesium merupakan logam alkali tanah yang berwarna abu-abu putih. Api mudah terbakar, terutama dalam bentuk bubuk, dan api magnesium tidak mudah dipadamkan. Namun, magnesium juga merupakan bagian penting dan esensial dalam kehidupan. Magnesium juga penting karena mengatur fungsi saraf dan darah, serta jumlah nutrisi yang ada dalam tubuh manusia. Produksi pesawat terbang, casing mesin, laptop, hingga ponsel dan kamera semuanya menggunakan magnesium. Magnesium dan paduan bahan pembuatnya diuapkan dalam ruang hampa untuk membuat media penyimpanan optik dan magnetik, serta media penyimpanan dan semikonduktor.

Target magnesium mempunyai karakteristik serupa dengan magnesium logam. Logam magnesium adalah logam yang lebih ringan karena tampilannya lebih ringan,-putih keperakan, dan merupakan logam alkali tanah. Logam magnesium memiliki sifat keuletan dan termal, serta beberapa retoris dan digunakan untuk menggantikan logam lain, seperti titanium, zirkonium, uranium, dan berilium. Selain itu, magnesium penting untuk membuat paduan logam dan lebih ringan, besi cor ulet, beberapa reagen Grignard, dan bahkan untuk membuat logam lain, seperti instrumen ilmiah.

 

2

Fitur Target Sputtering Magnesium 4N Mg

• Penetapan harga yang kompetitif
• Kemurnian tinggi
• Butir dimurnikan, Struktur mikro direkayasa
• Kelas semikonduktor

Penerapan Target Sputtering Magnesium 4N Mg

Magnesium Sputtering Target dapat digunakan dalam semikonduktor, deposisi uap kimia (CVD), deposisi uap fisik (PVD), tampilan, dan aplikasi optik.

Spesifikasi Target Sputtering Magnesium 4N Mg
Jenis Bahan Magnesium
Simbol mg
Berat Atom 24.305
Nomor Atom 12
Warna/Penampilan Putih Keperakan, Metalik
Konduktivitas Termal 160 W/m.K
Titik Leleh (derajat) 649
Koefisien Ekspansi Termal 8.2 x 10-6/K
Kepadatan Teoritis (g/cc) 1.74
Rasio Z 1.61
Menggerutu DC
Kepadatan Daya Maks*
(Watt/Inci Persegi)
50
Ukuran 1 inci - 8inci/Disesuaikan
Jenis Obligasi Indium, Elastomer
Kemurnian Disesuaikan
Komentar Tarif yang sangat tinggi mungkin terjadi.

 

FAQ untuk Target Sputtering Magnesium 4N Mg

 

Apakah kamu seorang pabrik atau apabrikan?
A: Ya, kami adalah pabrik Target Sputtering Magnesium 4N Mg, tetapi kami biasanya menggunakan perusahaan dagang kami untuk menangani bisnis di luar negeri. Akan lebih mudah untuk menerima pengiriman uang dan mengatur pengiriman.

Apa metode pengirimannya?
A: Umumnya, kami mengirimkan Target Sputtering Magnesium 4N Mg melalui UPS, DHL, atau FedEx. Selain itu, kami dapat mengirimkan melalui laut ke pelabuhan atau melalui udara ke bandara terdekat.

Mengapa Target Sputtering Magnesium 4N Mg Anda sangat-efektif dari segi biaya?
J: Kami menghilangkan perantara pada-ke-proses produksi akhir, dan kami memperoleh bahan mentah langsung dari sumbernya.

Apakah Anda melakukan pemeriksaan kualitas di tempatproduk?
A: 100% inspeksi penuh pastinya. Semua Target Sputtering Magnesium 4N Mg yang tidak memenuhi syarat dibuang.

Bagaimana Anda memastikan waktu tunggu Anda?
A: Dari persiapan material hingga permesinan dan akhirnya inspeksi penuh. Setiap tahap produksi dipantau dan dikontrol secara ketat untuk memberi Anda waktu pengiriman yang akurat.

Berapa MOQ Target Sputtering Magnesium 4N Mg?
A: Tergantung pada kuantitas Target Sputtering Magnesium 4N Mg; umumnya, tidak ada batas MOQ.

Bagaimana cara membayarnyaproduk?
A: Transfer bank (T/T) dapat diterima.

Berapa waktu pengirimannya?
A: Sekitar 7-20 hari, yang tergantung pada kuantitas dan produksi Target Sputtering Magnesium 4N Mg.

Paket macam apa itu?
A: Umumnya, kami menggunakan kotak karton atau kotak kayu lapis dengan bahan pelindung di dalamnya untuk memastikan keamanan Target Sputtering Magnesium 4N Mg.

Berapa waktu tunggunya?
A: Dari pemesanan hingga penerimaan kargo akan memakan waktu sekitar 10-25 hari.

 

Tag populer: Target sputtering magnesium 4n mg, pemasok target sputtering magnesium 4n mg Cina, pabrik