Target sputtering ti murni
Dibandingkan dengan target lain, target logam berada dalam permintaan pasar yang lebih tinggi daripada target keramik, kinerjanya lebih tinggi, dan masa pakai lebih lama. Untuk target sputtering, semakin tinggi kemurnian kimia logam, semakin baik konduktivitas dan ketahanan aus dari film yang dibuat darinya.
Target sputtering Ti murni memiliki kemurnian tinggi, semir permukaan yang baik, konduktivitas listrik dan termal yang baik, ketahanan dampak yang baik, keausan yang baik dan ketahanan korosi, kekuatan tarik tinggi, daktilitas yang baik.
Penerapan target sputtering Ti murni
1. Bahan pelapis dekoratif
2. Bahan Implan Biologis
3. Bahan Getter: Titanium memiliki kapasitas adsorpsi yang kuat untuk gas aktif, dan dapat digunakan dalam sistem pompa vakum yang sangat tinggi dan pompa ion sputter
4. Bahan Informasi Elektronik berteknologi Tinggi: Konsumsi titanium kemurnian tinggi untuk sirkuit terintegrasi dan tampilan panel datar telah meningkat
Spesifikasi target sputtering TI murni
|
Nilai |
Kelas 1, Kelas 2 |
|
Teknik |
Sintering, penempaan, anil, bergulir, melelehkan vakum, pemesinan |
|
Kemurnian |
99.9%-99.995% |
|
Diameter |
<350mm |
|
Ketebalan |
1-100 mm |
|
Ukuran untuk bar |
Rectangle (Length 1800mm, Width 400mm Thickness>1mm) |
|
Ukuran untuk tabung |
Tabung (target rotory, od: 20mm -160 mm, ketebalan: 2-20 mm) |
|
Kepadatan |
4.5g\/cm3 |
|
Permukaan |
Dipoles, cerah, pembersihan kimia, oksida hitam, dll. |
|
Membentuk |
Disk, pelat, persegi panjang, persegi, target kolom, |
|
Standar |
ASTM B385, GB, JIS |
Gambar target sputtering murni
Tag populer: Target sputtering murni, China Pure Ti Sputtering Target Pemasok, Pabrik
