Target sputtering paduan titanium aluminium

Target sputtering paduan aluminium titanium umumnya diproduksi oleh proses penekan isostatik panas, yang memiliki ukuran butir yang lebih kecil dan lebih banyak struktur internal mikroskopis yang seragam, yang dapat membantu pelanggan mendapatkan lapisan film tipis kemurnian tinggi dan laju erosi konstan.

Kirim permintaan

Target sputtering paduan aluminium titanium yang disediakan oleh perusahaan kami memiliki keunggulan berkualitas tinggi, kemurnian tinggi, struktur seragam, umur layanan panjang, ketahanan korosi yang baik, konduktivitas termal tinggi dan harga kompetitif.

Target sputtering paduan aluminium aluminium berkualitas tinggi banyak digunakan dalam pelapisan alat perangkat keras, lapisan dekoratif, lapisan layar datar, pemrosesan PVD dan CVD, komponen semikonduktor, dan berbagai mesin sputtering magnetron dan mesin pelapis ion.

Spektif target sputtering paduan aluminium titanium

Nilai	Alti 25\/75, Alti 30\/70, Alti 40\/60, dll.
Teknik	Hot isostatic menekan, sintering, penempaan, anil
Kemurnian	99.5-99.9%
Jenis	Target sputtering planar, target sputtering rotary, katoda ACR.
Ketebalan	Disesuaikan
Panjang	Disesuaikan
Diameter	Disesuaikan
Kepadatan	3.4g\/cm3
Membentuk	Disk, pelat, kolom, langkah, persegi panjang, tabung
Permukaan	Dipoles, pembersihan alkali, penggilingan, oksida hitam, dll.