Target sputtering tial
Magnetron Sputtering Technology adalah salah satu teknologi utama untuk menyiapkan bahan film tipis, dan target sputtering logam adalah bahan utama dalam proses sputtering.
Target sputtering tial memiliki karakteristik yang sangat baik dari titanium logam dan aluminium logam, seperti daktilitas tinggi, ketahanan aus yang tinggi, konduktivitas listrik dan termal yang sangat baik, struktur mikro yang optimal, daya tahan yang baik, kinerja etsa dan kinerja pemrosesan yang baik, kinerja ikatan yang baik dengan substrat, dll.
Target sputtering tial dapat menggagalkan pelapis nitrida yang tahan oksidasi dan tahan oksidasi (tialn) pada latihan, pemotong, sisipan pemotongan yang dapat diindeks dan alat lainnya, dan meningkatkan laju umpan, pemotongan kinerja dan masa pakai alat pemrosesan.
Target sputtering tial juga menghasilkan lapisan perekat dan capping di sirkuit terintegrasi, pelapis dekoratif untuk perangkat elektronik (seperti dial untuk ponsel, tampilan panel datar, atau jam tangan mewah), dan pelapis kaca untuk industri otomotif.
Spesifikasi target sputtering tial
|
Nilai |
Tial 80/20,70/30,50/50 |
|
Jenis |
Rasio atom |
|
Kemurnian |
＞95% |
|
Kepadatan |
4.2.g/cm3 |
|
Diameter |
Disesuaikan |
|
Ketebalan |
Disesuaikan |
|
Jenis |
Disk, silindris |
|
Waktu pengiriman |
25 hari |
|
Permukaan |
Dipoles |
FAQ:
Apa itu MOQ?
A: Tergantung pada kuantitas, umumnya, tidak ada batas MOQ.
Bagaimana cara membayarnya?
A: Transfer bank (T/T) akan diterima.
Berapa waktu pengirimannya?
A: sekitar 7-20 hari yang tergantung pada kuantitas dan produksi.
Apa paketnya?
A: Kasing kartun atau kasing kayu lapis.
Apa waktu tunggu?
A: Dari pesanan yang ditempatkan hingga penerima kargo akan memakan waktu 10-25 hari.
Apa metode pengirimannya?
A: Secara umum, kami mengirim kargo oleh UPS, DHL atau FedEx. Juga, kita dapat mengirim melalui laut ke pelabuhan atau melalui udara ke bandara terdekat.
Gambar target sputtering tial
Tag populer: target sputtering tial, pemasok target sputtering, pabrik
