Deskripsi Produk
Sputtering adalah metode Deposisi Uap Fisik (PVD) tipe baru. Sputtering banyak digunakan dalam: layar panel datar, industri kaca (termasuk kaca arsitektur, kaca otomotif, kaca film optik), sel surya, teknik permukaan, media perekam, mikroelektronika, lampu otomotif dan pelapis dekoratif, dll.
Jenis dan Ukuran
|
Nama Produk |
Target sputtering Tungsten(W-1). |
|
Kemurnian Tersedia (%) |
99.95% |
|
Membentuk: |
Piring, bulat, berputar |
|
Ukuran |
ukuran oem |
|
Titik lebur(derajat ) |
3407 (derajat) |
|
Volume atom |
9,53 cm³/mol |
|
Kepadatan (g/cm³) |
19,35g/cm³ |
|
Koefisien resistansi suhu |
0.00482 I/ derajat |
|
Panas sublimasi |
847,8 kJ/mol(25 derajat ) |
|
Panas laten pencairan |
40,13±6,67kJ/mol |
|
keadaan permukaan |
Pencucian semir atau alkali |
|
Aplikasi: |
Dirgantara, peleburan tanah jarang, sumber cahaya listrik, peralatan kimia, peralatan medis, mesin metalurgi, peralatan peleburan, minyak bumi, dll |
Fitur
(1) Permukaan halus tanpa pori, goresan dan ketidaksempurnaan lainnya
(2) Tepi gerinda atau bubut, tidak ada bekas pemotongan
(3) Lerel kemurnian materi yang tiada duanya
(4) Daktilitas tinggi
(5) Struktur mikro homogen
(6) Penandaan laser untuk Barang spesial Anda dengan nama, merek, ukuran kemurnian, dan sebagainya
(7) Setiap buah target sputtering mulai dari item & nomor bahan bubuk, pekerja pencampur, waktu keluar gas dan HIP, petugas permesinan, dan detail pengepakan semuanya dibuat sendiri.
Aplikasi
1. Cara penting untuk membuat bahan film tipis adalah sputtering-cara baru deposisi uap fisik (PVD). Film tipis yang dibuat berdasarkan target memiliki karakteristik kepadatan tinggi dan daya rekat yang baik. Karena teknik sputtering magnetron diterapkan secara luas, target logam dan paduan dengan kemurnian tinggi sangat dibutuhkan. Dengan titik leleh tinggi, elastisitas, koefisien muai panas yang rendah, resistivitas dan stabilitas panas yang baik, target paduan tungsten dan tungsten murni banyak digunakan dalam sirkuit terpadu semikonduktor, tampilan dua dimensi, fotovoltaik surya, tabung sinar X dan rekayasa permukaan.
2. Dapat bekerja dengan perangkat sputtering lama serta peralatan proses terbaru, seperti pelapis area luas untuk energi surya atau sel bahan bakar dan aplikasi flip-chip.
Tag populer: kemurnian tinggi 99,95% target sputtering tungsten, Cina pemasok target sputtering tungsten dengan kemurnian tinggi 99,95%, pabrik
