Target sputtering paduan nikel-kromium-aluminium-paduan besi pada dasarnya adalah target sputtering paduan multi-berbasis nikel yang mengandung nikel, kromium, aluminium, dan besi. Mereka digunakan dalam deposisi uap fisik (PVD) untuk pembuatan film tipis fungsional. Target dari paduan ini memiliki-stabilitas suhu tinggi, ketahanan terhadap oksidasi, ketahanan terhadap korosi, dan kinerja sputtering yang sangat baik, yang diperlukan dalam bidang ruang angkasa, peralatan energi, perangkat elektronik, dan bidang pelapis pelindung industri.
Proses Pembuatan Target Sputtering Nikel-Kromium-Aluminium-Paduan Besi
Persiapan bahan baku: Fe, Al, Cr, dan Ni dengan kemurnian tinggi (Lebih besar dari atau sama dengan 99,95%) dipilih dan ditimbang sesuai dengan rasio yang ditentukan yang dirancang untuk komposisi paduan (misalnya, Ni:Cr:Al:Fe=74:20:3:3, yang dapat divariasikan menurut komponen lainnya). Perlindungan aluminium juga dapat digunakan untuk menjaganya dari oksidasi jika digunakan terakhir kali.
Peleburan Induksi Vakum: Bahan pengisi ditempatkan dalam tungku induksi vakum dan dipanaskan hingga suhu target yang cukup tinggi untuk menyebabkan peleburan bahan pengisi secara menyeluruh. Suhu lelehan diseimbangkan pada suhu ini untuk membantu paduan sempurna. Tungku dibersihkan dengan argon dan kemudian ditimbun kembali dengan gas inert pelindung. Dalam langkah peleburan dan paduan ini, atmosfer gas pelindung digunakan untuk mendorong perolehan paduan lelehan mikro-struktural dan komposisi yang homogen.
Pengecoran dan Homogenisasi Annealing: Lelehan dituangkan ke dalam-cetakan yang telah dirancang sebelumnya dan didinginkan untuk mendapatkan ingot. Setelah pendinginan, anil homogenisasi dilakukan untuk menghilangkan segregasi komposisi dan tegangan pengecoran.
Pengerjaan dan Penyelesaian Panas: Ingot ditempa,-digulung panas, dan ditipiskan hingga mencapai ketebalan target. Perawatan larutan padat/anil kemudian dilakukan, diikuti dengan pemesinan hingga dimensi target akhir, dengan kekasaran permukaan Ra Kurang dari atau sama dengan 1,6 μm.
Penerapan Target Sputtering Nikel-Kromium-Aluminium-Paduan Besi
1. Memberikan perlindungan terhadap korosi dan oksidasi termal suhu tinggi yang digunakan untuk lapisan penghalang termal, lapisan pengikat, dan lapisan pelindung untuk komponen suhu tinggi, lapisan pelindung - tenaga nuklir, bilah turbin gas, pipa boiler pembangkit listrik, dan komponen mesin-aero (bilah turbin, ruang bakar, komponen-ujung panas)
2. Digunakan untuk lapisan pelindung dan turbin gas suhu tinggi, perangkat tenaga nuklir, mesin-aero, ruang pembakaran suhu tinggi, lapisan pelindung dan bilah turbin gas, penguat pembangkit listrik, dan lapisan atas modul pembakaran penghalang termal.
3. Pelapis pelindung industri dan pelapis dekoratif (termasuk pelapis pelindung keausan dan korosi, pelapisan dekoratif, pelapis pelindung pada telepon seluler dekoratif, perhiasan pelapis pelindung, pelapis pelindung jam tangan dekoratif, pelapis dekoratif perhiasan pelindung ponsel, jam tangan, pelapisan telepon pelindung dekoratif, perhiasan, jam tangan, pelapis dekoratif pelindung ponsel, perhiasan, jam tangan, pelapis pelindung dekoratif pelindung, dekoratif, ponsel, perhiasan, jam tangan) pelapis menyediakan keausan pelindung dan pelapisan dekoratif jam tangan perhiasan pelindung seluler, pelapis penghalang termal, jam tangan perhiasan seluler.
