Target Penyemprotan Magnesium Oksida (MgO)

Magnesium oksida dalam target sputtering terutama tercermin dalam pembentukan film berkecepatan tinggi, aplikasi dalam industri mikroelektronik dan fotovoltaik, proses persiapan khusus, dan aplikasi pelapisan yang luas. Aplikasi ini memanfaatkan sifat fisik dan kimia magnesium oksida itu sendiri.

Penerapan magnesium oksida (MgO) dalam target sputtering terutama tercermin dalam aspek-aspek berikut:

Pembentukan film berkecepatan tinggi: Sasaran penyemprotan magnesium oksida menggunakan MgO dan zat konduktif sebagai komponen utamanya. Komposisi khusus ini memungkinkan film MgO diorientasikan saat dibentuk dengan MgO melalui penyemprotan DC, sehingga mencapai pembentukan film berkecepatan tinggi saat membentuk film MgO.

Aplikasi dalam industri mikroelektronika dan fotovoltaik: Dengan berkembangnya industri mikroelektronika dan fotovoltaik, target magnesium oksida dengan kemurnian tinggi telah banyak digunakan dalam produk elektronik dan pelapis fotovoltaik. Kemurniannya yang tinggi mengurangi gangguan yang disebabkan oleh kotoran dan meningkatkan stabilitas produk serta masa pakai.

Proses persiapan: Dalam proses persiapan target keramik oksida berkinerja tinggi, magnesium oksida merupakan salah satu target sputtering yang umum. Bubur oksida diperoleh melalui penggilingan bola vakum, kemudian pencetakan bubur, dan proses sintering, target sputtering magnesium oksida berukuran besar dan berdensitas tinggi dapat diperoleh.

Aplikasi pelapisan: Pelapisan film tipis sputtering dari target sputtering magnesium oksida telah banyak digunakan dalam industri seperti panel kristal cair, layar sentuh, sel surya film tipis, dan dioda pemancar cahaya. Aplikasi pelapisan ini memanfaatkan titik leleh yang tinggi, isolasi yang sangat baik, ketahanan panas, antioksidan, dan sifat korosi magnesium oksida.

Tag populer: target sputtering magnesium oksida (mgo), pemasok target sputtering magnesium oksida (mgo) Tiongkok, pabrik