Target Penyemprotan Tembaga (Cu)

Target sputtering tembaga memiliki sifat yang sama dengan logam tembaga（Cu）. Tembaga adalah unsur kimia dengan simbol Cu (dari bahasa Latin: cuprum) dan nomor atom 29. Tembaga adalah logam yang lunak, mudah ditempa, dan lentur dengan konduktivitas termal dan listrik yang sangat tinggi.

Kirim permintaan

Deskripsi Produk

Target sputtering tembaga memiliki sifat yang sama dengan logam tembaga (Cu). Tembaga adalah unsur kimia dengan simbol Cu (dari bahasa Latin: cuprum) dan nomor atom 29. Tembaga adalah logam yang lunak, mudah dibentuk, dan lentur dengan konduktivitas termal dan listrik yang sangat tinggi. Tembaga murni yang baru saja terpapar berwarna jingga kemerahan. Tembaga digunakan sebagai konduktor panas dan listrik, sebagai bahan bangunan, dan sebagai penyusun berbagai paduan logam. Target Sputtering Tembaga diproduksi dengan teknologi peleburan, dan banyak digunakan untuk semikonduktor, pelapis dekoratif, dan bidang pengemasan canggih.

Kami dapat memproduksi target sputtering tembaga dengan kemurnian 99,9%~99,9999%, dan kandungan oksigen terendah dapat berupa kabel semikonduktor, dll. Kami tidak hanya memproduksi target sputtering tembaga planar (generasi G8.5 maksimum), tetapi juga target putar tembaga, yang terutama digunakan untuk industri layar sentuh. Karena butirannya sulit dipecah, kami hanya dapat memproses dengan deformasi yang sangat besar dan mengendalikan pertumbuhan kembaran untuk mencapai struktur mikro yang halus dan seragam, yang memastikan tingkat erosi yang lebih rendah dan sensitivitas pembentukan partikel selama sputtering.

Berikut ini adalah dua mikrograf target sputtering tembaga kami, ukuran butiran rata-rata <50μm

Spesifikasi Tembaga (Cu)

jenis bahan	Tembaga
Simbol	Aku
Berat Atom	63.546
Nomor atom	29
Warna/Penampilan	Tembaga, Metalik
Konduktivitas termal	400 W/m.K
Titik Leleh (derajat)	1,083
Koefisien Ekspansi Termal	16.5 x 10-6/K

Target sputtering tembaga dan metode persiapan

Tembaga dimurnikan dari 99,95% menjadi 99,99%, 99,999%, dan 99,9999% melalui beberapa elektrolisis dan peleburan regional. Kemurnian tertinggi di Tiongkok adalah sekitar 99,9999% (6N). Dengan ingot tembaga dengan kemurnian tinggi sebagai bahan baku, penempaan, penggulungan, dan perlakuan panas pada bahan baku dapat membuat butiran kristal pada ingot tembaga menjadi lebih kecil dan meningkatkan kepadatan untuk memenuhi persyaratan target tembaga untuk sputtering. Bahan tembaga dengan kemurnian tinggi setelah perlakuan deformasi diproses secara mekanis. Pemrosesan target tembaga memerlukan presisi tinggi dan kualitas permukaan tinggi, dan dapat diproses menjadi ukuran target yang dibutuhkan oleh mesin pelapis vakum.