Deskripsi Produk
Sasaran Sputtering Target Ti33Al67
Kami ahli dalam memproduksi Target Sputtering berkualitas tinggi Target sputtering Ti33Al67, target keramik, dan target logam.
Produk-produk tersebut diaplikasikan pada berbagai bidang pelapisan vakum dengan berbagai metode (magnetron sputtering, pelapisan vakum, dll.): Penelitian ilmiah, kedirgantaraan, otomotif, mikroelektronika, industri sirkuit terpadu, sumber cahaya, optik, dekorasi, industri layar panel datar, industri penyimpanan informasi, penyimpanan data dan seterusnya.
Target sputtering paduan titanium aluminium dapat dibuat dengan dua cara, HIP dan peleburan. Target dengan HIP akan memiliki kepadatan yang lebih tinggi. Target dengan peleburan akan memiliki kemurnian yang lebih tinggi. Semua tergantung pada aplikasi Anda.
Kemurnian: Al-Ti 33/67 pada% Al/Ti 50/50 pada%, 99,95%, 99,5%
Bentuk: Cakram, Plat, Tangga (Dia 300mm, Tebal 1mm) Persegi Panjang, Lembaran, Tangga (Panjang 1000mm, Lebar 300mm, Tebal 1mm) Tabung (Diameter< 300mm, Thickness >2 mm)
Aplikasi: Terutama digunakan dalam pelapisan peralatan, Katup Anti-korosi/Pabrik Kimia, Industri Kelautan.
Deskripsi Target Sputtering Titanium Aluminium
|
Kemurnian |
Al-Ti (35/67at%), Al/Ti (50:50 at%), AlTi 97/3wt%, AlTi 95/5wt%, AlTi 90/10wt% |
|
Membentuk |
Cakram, Plat, Tangga (Diameter kurang dari atau sama dengan 300mm, Ketebalan lebih dari atau sama dengan 1mm) (Panjang kurang dari atau sama dengan 1000mm, Lebar kurang dari atau sama dengan 300mm, Ketebalan lebih dari atau sama dengan 1mm) |
|
Sertifikasi |
Standar ISO 9001:2008 |
|
Spesifikasi |
Disesuaikan sesuai permintaan |
|
Proses |
Ditempa, Digulung, Digiling |
|
Aplikasi |
1. Pelapisan listrik; 2. Teknik Kimia & Teknologi Petrokimia; 3. Medis |
|
Kepadatan |
4,51 gram/cm³ |
Tag populer: target ti33al67, pemasok target ti33al67 Tiongkok, pabrik
