Sasaran Penyemprotan Kobalt

Kobalt adalah logam keras dan rapuh, yang penampilannya menyerupai besi dan nikel. Permeabilitas logamnya sekitar dua pertiga dari permeabilitas besi. Kobalt cenderung terbentuk sebagai campuran dua alotrop pada rentang suhu yang luas. Transformasinya lambat dan menjadi salah satu penyebab variasi luas dalam data yang dilaporkan tentang sifat fisik kobalt.

Titik leleh: 1495 derajat Titik didih: 2927 derajat

Target sputtering adalah cakram dari bahan dengan kemurnian tinggi yang digunakan sebagai sumber sputtering atom untuk penembakan berkas ion. Silakan hubungi kami jika ukuran dan/atau kemurnian target sputtering yang Anda perlukan tidak tercantum.

Sputtering merupakan metode yang digunakan secara luas dalam pengendapan lapisan tipis, yang menggunakan proses pengendapan uap fisika (PVD) di mana atom-atom dikeluarkan dari material target padat akibat pemboman target oleh partikel-partikel berenergi tinggi.

Dalam kasus target sputtering kobalt, kobalt dengan kemurnian tinggi digunakan sebagai material target. Prosesnya dimulai dengan menciptakan plasma di ruang sputtering, biasanya dengan gas argon. Ion dari plasma dipercepat menuju target kobalt dengan energi yang cukup untuk melepaskan atom kobalt dari permukaan target. Saat atom kobalt ini dikeluarkan, mereka bergerak melintasi ruang vakum dan mengendap pada substrat, membentuk lapisan tipis dengan sifat yang diinginkan. Kondisi sputtering, termasuk daya yang diterapkan pada target, tingkat vakum, dan komposisi gas, dikontrol dengan cermat untuk mencapai karakteristik lapisan yang dibutuhkan, seperti ketebalan, keseragaman, dan struktur kristal.

Lapisan film tipis kobalt (Co) yang diproduksi melalui sputtering sangat penting di berbagai sektor karena sifat magnetik, ketahanan aus, dan stabilitas kimia kobalt. Lapisan ini sebagian besar digunakan dalam industri penyimpanan data untuk media perekaman magnetik. Lapisan ini juga digunakan dalam industri elektronik untuk fabrikasi sensor magnetik, komponen induktif, dan sistem mikro-elektromekanis.

Target sputtering Cobalt Target terbuat dari logam dengan kemurnian tinggi 99,99% kobalt

Ketebalan standar 0.1 mm (100µm) Ketebalan lain tersedia berdasarkan permintaan

Diameter yang tersedia Ø 20.0 mm, 20,4 mm, 32 mm, 39 mm, 42 mm, 50 mm, 50,8 mm, 54 mm, 57 mm, 60 mm, 63,5 mm, 75 mm, 76 mm.

Tag populer: target sputtering kobalt, pemasok target sputtering kobalt Cina, pabrik