Target Sputtering Aluminium Neodymium (AlNd)
Target Sputtering Aluminium Neodymium (AlNd)

Target Sputtering Aluminium Neodymium (AlNd)

Paduan aluminium neodymium merupakan target sputtering magnetron yang umum digunakan. Aluminium memiliki titik leleh 660 derajat, densitas 2,7, dan konduktivitas termal 0,53, sedangkan neodymium memiliki titik leleh 1024 derajat, densitas 7,0, dan konduktivitas termal 0,031.
Kirim permintaan
Deskripsi Produk

 

Paduan aluminium neodymium merupakan target sputtering magnetron yang umum digunakan. Aluminium memiliki titik leleh 660 derajat, densitas 2,7, dan konduktivitas termal 0,53, sedangkan neodymium memiliki titik leleh 1024 derajat, densitas 7,0, dan konduktivitas termal 0,031. Karena perbedaan titik leleh, densitas, dan konduktivitas termal yang besar, jika diproduksi secara langsung menggunakan metode peleburan vakum, maka akan mudah terjadi segregasi dan percikan dalam proses peleburan, yang menyebabkan polusi, sehingga menghasilkan struktur paduan yang tidak rata dan kandungan pengotor yang tinggi, yang secara serius memengaruhi kualitas paduan.

 

Spesifikasi

 

Nama

Sasaran Paduan AlNd

Bahan

Paduan Aluminium Neodymium

Kemurnian

>4N >99.99%

Ukuran

Disesuaikan

Warna

Perak

Membentuk

Disesuaikan

Permukaan

Permukaan yang dipoles;Ra Kurang dari atau sama dengan 1,6μm

Kepadatan

≈2,72g/cm³ (berdasarkan proporsi Neodymium terhadap Aluminium)

Aplikasi

Digunakan untuk Layar Kristal Cair, Panel Sentuh, Pelapisan Film PVD, Pelapisan Vakum, dll.

 

Komposisi

 

Target Sputtering AlNd 97/3wt%

Target Penyemprotan AlNd 99,4/0.6wt%

 

Tag populer: target sputtering aluminium neodymium (alnd), pemasok target sputtering aluminium neodymium (alnd) Tiongkok, pabrik