Deskripsi Produk
Target NiO merupakan material yang digunakan dalam teknologi pertumbuhan lapisan tipis seperti deposisi uap fisik (PVD) dan deposisi uap kimia (CVD). Teknologi ini memainkan peran utama dalam pembuatan perangkat semikonduktor, perangkat optoelektronik, dan berbagai lapisan film berkinerja tinggi.
Properti utama target NiO meliputi:
Sifat utama target NiO meliputi:
Kemurnian: Kemurnian target NiO secara langsung memengaruhi kualitas lapisan akhir yang diendapkan. Material dengan kemurnian tinggi dapat mengurangi masuknya kotoran dan meningkatkan sifat listrik dan optik lapisan.
Struktur kristal: Struktur kristal menentukan sifat listrik dan magnetik NiO dan memengaruhi konduktivitas dan magnetisme material.
Sifat listrik: Bahan target NiO memiliki konduktivitas listrik yang baik dan merupakan konduktor ion dan elektronik yang sangat baik.
Sifat magnetik: NiO menunjukkan sifat diamagnetik, yang sangat penting dalam skenario aplikasi tertentu.
Spesifikasi
|
Bahan |
Sasaran NiO |
|
Kemurnian |
99.99% |
|
Ukuran |
Diameter 1", "2", 3", 4" atau Disesuaikan |
|
Kepadatan relatif |
di atas 80% |
|
Membentuk |
Bulat, persegi panjang, butiran, atau disesuaikan |
|
Teknologi |
Sinsterisasi |
|
Ikatan |
Indium, Elastomer |
|
Permukaan |
Tanah |
|
Surat Perintah Kerja (SAK) |
Akan diberikan melalui email setelah pengiriman |
|
Analisis |
ICP-OES atau MSDS |
Bidang aplikasi target NiO
1. Teknologi pengendapan film tipis
Lapisan tipis magnetik: Target NiO memainkan peran penting dalam produksi lapisan tipis magnetik. Lapisan tipis magnetik ini banyak digunakan dalam penyimpanan data, sensor magnetik, dan perangkat spintronik. Target NiO dapat menghasilkan lapisan tipis berkualitas tinggi dengan sifat magnetik dan stabilitas termal yang baik, memenuhi standar kinerja material tinggi yang dibutuhkan untuk aplikasi ini.
Lapisan tipis fotovoltaik: Target NiO juga merupakan material yang sangat diperlukan untuk pembuatan lapisan tipis fotovoltaik. Lapisan ini digunakan dalam bidang seperti sel surya, fotodetektor, dan teknologi tampilan panel datar. Sifat konduktif transparan NiO yang sangat baik sangat meningkatkan efisiensi dan kinerja perangkat ini.
Pembawa katalis: Target NiO digunakan secara luas sebagai pembawa katalis karena stabilitas kimia dan aktivitas permukaannya yang unik. Dalam proses pengolahan lingkungan dan reaksi kimia, katalis NiO menunjukkan aktivitas katalitik yang efisien dan daya tahan yang baik, sehingga memberikan dukungan teknis utama untuk produksi energi dan bahan kimia yang bersih.
2. Medan energi baru
Sel surya: Aplikasi target NiO di bidang sel surya, terutama pada sel surya perovskit dan material fotovoltaik fleksibel, telah menunjukkan keunggulannya yang tak tergantikan. Material target NiO dapat digunakan sebagai lapisan transpor elektron atau lapisan transpor lubang untuk meningkatkan efisiensi konversi dan stabilitas baterai secara efektif.
Baterai ion litium: Dalam bidang baterai ion litium, target NiO digunakan untuk membuat bahan elektroda, terutama sebagai bagian dari bahan katode, yang meningkatkan kepadatan energi dan siklus masa pakai baterai. Kemurnian tinggi dan struktur mikro target NiO yang dioptimalkan sangat penting untuk meningkatkan kinerja baterai.
3. Teknologi sensor
Penerapan target NiO dalam bidang teknologi sensor menunjukkan kemampuannya untuk mendukung teknologi inovatif. Terutama pada sensor gas dan sensor kelembapan, material berbasis NiO dapat memberikan hasil pemantauan yang akurat karena sensitivitasnya yang tinggi dan stabilitasnya yang sangat baik, yang sangat penting untuk pemantauan lingkungan, pengendalian proses industri, serta pemantauan kesehatan dan keselamatan.
Tag populer: target sputtering nikel oksida (nio), pemasok target sputtering nikel oksida (nio) Cina, pabrik
