Target Sputtering Niobium Oksida (Nb2O5)
Target Sputtering Niobium Oksida (Nb2O5)

Target Sputtering Niobium Oksida (Nb2O5)

Target niobium oksida kami diproduksi menggunakan proses pengepresan panas vakum, pengepresan isostatik panas, pengepresan dingin, dan penyemprotan termal yang canggih. Produk kami meliputi target persegi panjang, target busur, dan target tabung.
Kirim permintaan
Deskripsi Produk

 

Target niobium oksida kami diproduksi menggunakan proses pengepresan panas vakum, pengepresan isostatik panas, pengepresan dingin, dan penyemprotan termal yang canggih. Produk kami meliputi target persegi panjang, target busur, dan target tabung.

 

Kemurnian: 99,99%;

Bentuk: silinder, datar;

Ukuran target datar yang ditekan dingin dan disinter: kisaran panjang dan lebar 10-600 mm (dapat disesuaikan menurut ukuran pelanggan).

Ukuran target tabung: diameter luar 50-160mm, ketebalan 4-17.5mm; panjang 200-4000mm (dapat disesuaikan menurut ukuran pelanggan);

Density: 4.3 g/cm3~4.5g/cm3, relative density>99%;

Resistivitas: kurang dari 0.1 ohm.cm (20 derajat);

Proses: Target putar niobium oksida mengadopsi proses penyemprotan plasma, target datar niobium oksida mengadopsi sintering pengepresan dingin, pengepresan panas vakum, pengepresan isostatik panas dan tiga proses lainnya dapat disediakan;

 

Aplikasi

 

Rumus Kimia

Nb2O5

Warna/Penampilan

Putih, Padatan Kristal, Abu-abu-Hitam

Bentuk

Cakram, Pelat, Sasaran Kolom, Sasaran Langkah, atau Sasaran yang Dibuat Khusus

Ukuran

hingga 450x300x12mm

Kemurnian (%)

99.95

Titik Leleh (derajat)

1,485

 

Aplikasi: Bahan target niobium oksida terutama digunakan untuk energi surya lapisan tipis, pelapis kaca optik, film AR layar sentuh, film kaca LOW-E (kaca radiasi rendah), semikonduktor, layar sentuh, tampilan panel datar, pelapis dekorasi alat, dll.

 

Tag populer: target sputtering niobium oksida (nb2o5), pemasok target sputtering niobium oksida (nb2o5) Tiongkok, pabrik